第19回 マイクロマシン / MEMS展

皆様のご来場誠にありがとうございました!
2008年7月30日(水)〜8月1日(金)にビッグサイトにて開催されました「第19回 マイクロマシン / MEMS展」では、当社ブースに多くの方々にご来場いただき誠に有難うございました。会期中は、十分なご説明を行えなかった場合もあったかと思いますが、何卒ご寛容のほどお願いいたします。また出展製品についてのご質問やお問合せなどがございましたら、お気軽にお問合わせ下さい。

出展当日の様子

第19回 マイクロマシン / MEMS展

2008.7.30-8.1

ご来場風景 1

出展品

SOIウェーハ
SOIウェーハ
パワーデバイス、MEMS用に適した当社のSOI(Silicon On Insulator)ウェーハは、基板直径を専用化して、従来あったテラス部を無くしたテラスフリー形状であるため、通常ウェーハと同様に取り扱え、デバイス形成面積をより大きく取ることが可能です。
pdf 当日配布資料PDF(SOIウェーハ01 : 152kb)
pdf 当日配布資料PDF(SOIウェーハ02 : 200kb)
石英マイクロ加工基板
石英マイクロ加工基板
小さな石英基板にマイクロ流路や金属電極を形成させた微細加工多層構造石英モジュールで、医療・バイオ分野で開発の進むμ-TASやマイクロリアクター用の微細流路の想定をはじめ、さまざまなアプリケーションに応じた技術開発も進めています。
pdf 当日配布資料PDF(石英マイクロ加工 : 307kb)
マイクロセラミック球状粒子
マイクロセラミック球状粒子
粒子径が極めて均一で、真球度の高い単分散マイクロセラミック球状粒子を開発しました。粒子径や密度の制御が可能で、さらにTiO2、Al2O3、ハイドロキシアパタイトなど様々なセラミックス素材での作製も可能です。
pdf 当日配布資料PDF(マイクロセラミック球状粒子 : 263kb)
極低熱膨張ガラス
石英ガラスにTiO2を添加したSiO2-TiO2ガラスをVAD法により合成することで、室温付近の熱膨張率ゼロを実現した極低熱膨張石英ガラスを開発しました。
pdf 当日配布資料PDF(極低熱膨張ガラス : 273kb)
合成石英ガラス
合成石英ガラス
四塩化けい素を原料とした合成石英ガラスは、高純度、低熱膨張、広い波長領域での優れた透過性などの特長を活かし、LSI・LCD用フォトマスク基板や各種光学部材、マイクロ波透過窓などにも応用されています。
pdf 当日配布資料PDF(合成石英ガラス : 196kb)

第19回 マイクロマシン展について

出展対象 マイクロマシン/MEMSファンドリーサービス /MEMS設計ツール /MEMS製造装置、超精密・微細加工/ナノテクノロジー/ナノテク材料/その他材料/バイオテクノロジー・医療関連 /評価・計測機器
ウェブサイト http://www.micromachine.jp/新しいウィンドウを開きます。
日時 2008年7/30(水)〜8/1(金)
時間 10:00〜17:00
会場 東京ビッグサイト
主催 (財)マイクロマシンセンター
同時開催 マイクロナノ2008

本ページに関するお問合せ先

コバレントマテリアル株式会社 営業支援部 篠生
TEL:03-5437-8407 FAX:03-5437-7395

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