液晶ディスプレイ用大型フォトマスク基板

ICマスクの材料技術とLCDマスクの研磨技術を融合!

超高純度の合成石英ガラスT-4000シリーズ
超高純度の合成石英ガラスT-4000シリーズ
 

超高純度の合成石英ガラスT-4000シリーズは、純度が高いのはもちろんのこと、耐熱性、光透過性、電気絶縁性に優れ、化学的にも極めて安定しています。合成石英ガラスの特性と高度な研磨技術を活かし、最近ではLCD製造における微細なパターン露光工程用のフォトマスク材として幅広く使用されています。

標準製品寸法

製品名(mm)
TFT製造用 CF製造用
QZ-TFP 390x610x6T QZ-TFP 450x550x5T
QZ-TFP 500x750x8T QZ-TFP 620x720x8T
QZ-TFP 520x610x10T QZ-TFP 700x800x8T
QZ-TFP 520x800x10T QZ-TFP 800x920x8T
QZ-TFP 800x920x10T QZ-TFP 700x1100x10T
QZ-TFP 850x1200x10T  
QZ-TFP 850x1400x10T  
QZ-TFP 1220x1400x13T  

※仕様(平面度、平行度など)は別途ご相談願います。
高精細品(平面度10ミクロメートル以下、外観欠陥2ミクロ以下)につきましても、提供いたします。

透過率測定例

透過半測定例
※当社の大型フォトマスク基板は250nm以上の波長で90%以上の透過率を有しています。

露光工程

露光工程は液晶パネルの解像度を決める最も重要な工程の一つで、レンズを用いてパターンマスクを通した光をガラス基板上に投影する工程です。

プロシキミティ方式
プロシキミティ方式の図

このページのTOPへ戻る

フォトマスク製造工程

材料

大型フォトマスク基板
高精細研磨した石英ガラス基板を出荷します。

ブランクス

ブランクス
クロム膜(遮光膜)を成膜したブランクスにします。

レジスト塗布

レジスト塗布
ブランクスにレジスト(感光材)を塗布します。

描画

描画
データを元に描画機でパターンを描画しします。

現像

現像
描画の済んだマスクから不要なレジストを除去します。

エッチング

エッチング
現象の済んだマスクから不要なクロム膜を溶解します。

 

検査・測長
出来上がったマスクを検査・測定します。

洗浄・出荷

検査を合格したマスクを純水で洗浄し出荷します。

資料請求・お問い合わせはこちら

このページのTOPへ戻る