液晶ディスプレイ製造の生産性を向上

液晶ディスプレイ製造の生産性を向上するクアーズテックのマテリアルテクノロジー

ノートパソコンや携帯電話、液晶TVを柱に、市場を急拡大させつつある液晶ディスプレイ(LCD)。近年、技術革新と量産化によって、大型化・低価格化が進む一方、高画質化を追求した4Kテレビが登場するなど、今後もますます需要は拡大するものと見られています。当社はこのLCD製造に欠かせないさまざまな製造部材を提供しており、LCD製造の効率向上に貢献しています。

半導体製造部材の技術・ノウハウを駆使して製造プロセスの合理化をサポート

当社は石英ガラス、炭素製品・炭化ケイ素製品をはじめ、半導体の製造プロセスに必要とされる、各種のファインセラミックス製品を開発・供給してきました。その中で培われた高純度化技術、加工技術、評価技術などは、製造プロセスの類似性が高い液晶ディスプレイ(LCD)の製造プロセスにおいても、高い競争力を発揮しています。

微細回路の露光精度向上に寄与する戦略製品「合成石英フォトマスク用基板」をはじめ、「真空破壊ブレイクフィルター™ 」や「常圧焼結SiCセラミックス」など、LCD生産の合理化・効率化をサポートする多彩な製造部材を提供し、顧客から高い評価を得ています。

第7世代から第8世代へ、大型化する液晶ディスプレイに対応する高度な生産技術

近年、LCDの大画面化にともない、ディスプレイを構成するガラス基板も大型化の一途をたどっています。2000年頃には第4世代と呼ばれる730×920mmのサイズが主体でしたが、2005年には第7世代(1,870×2,200mm)、2006年には第8世代(2,160×2,400mm)の量産化が始まるなど、大型化の波は加速度的に進展しています。

それにともない、部材生産においてもさらなる精度と独自のノウハウが求められています。当社は合成石英の高純度化技術、研磨技術と独自の量産化ノウハウで、フォトマスク用基板の大型化に対応する体制をすでに整え、拡大する需要に応えていきます。

液晶ディスプレイ製造のキープロセスに多彩な製品を提供

液晶ディスプレイ製造フロー図

成膜 露光 エッチング 真空破壊用ブレイクフィルター™

真空破壊用ブレイクフィルター™ の写真

セラミック多孔体のもつ圧力バッファー効果を利用した、真空破壊(注1)用の気流制御フィルターです。従来の真空破壊に必要とされたスローベント(注2)が不要になるとともに、パーティクルの低減や、突発パーティクルの防止にも効果を発揮します。

注1 真空破壊:
工程内のロードロック室を、加工時の真空状態から常圧に戻すための操作
注2 スローベント:
パーティクルの舞い上がりを防ぐために、ロードロック室内にゆっくりと窒素ガスを導入する装置

露光 合成石英フォトマスク用基板

合成石英フォトマスク用基板の写真

金属不純物が1/10以下と非常に純度が高く、均質性に優れ、脈理や気泡がほとんどないため、紫外線の透過率にも優れています。また、石英を素材とするため熱膨張性が低く、光の熱に対しても画描が伸びないという特徴を持ち、高精度のパターニング実現に貢献しています。

露光 常圧焼結SiCセラミックスCERASIC®

常圧焼結SiCセラミックス“CERASIC<sup>®</sup> ”の写真

ダイアモンドにつぐ硬性と、軽量性を併せ持った構造部材セラミックス材料です。露光精度を維持するための、高平坦でたわみやひずみの起らない軽量な支持台の材料として、高い評価を得ています。

アニール GLASSUN ロール

グラスサンロールの写真

TFTアレイ基板を搬送するローラとして利用されます。高純度なシリカガラスを用いることで金属汚染を防止し、パーティクルによる損傷を防ぐ効果があります。そのため、FPD (Flat Panel Display)の板ガラス製造の搬送工程にも利用されています。

アニール 大型石英チャンバー

アクティブマトリクス方式を利用した代表的な液晶ディスプレイであるTFT(Thin Film Transistor)アレイ基板の熱処理装置内で、バッチ炉として利用される石英製のチャンバーです。石英は金属と比較して、パーティクルの発生を極限まで抑えることができ、金属汚染の抑止に寄与します。

このページのTOPへ戻る