半導体産業ではエピタキシャル成長用ベルジャー、酸化・拡散などの熱処理用炉芯管、ボートなどの治具類、洗浄槽などに用いられており、また、LSIの転写工程に欠かせないフォトマスク材にも応用されています。
半導体産業ではシリコン単結晶引き上げ用ルツボ、エピタキシャル成長用ベルジャー、酸化・拡散などの熱処理用炉芯管、ボートなどの治具類、洗浄槽などに用いられており、また、LSIの転写工程に欠かせないフォトマスク材にも応用されています。
一般の石英に比べ金属不純物が1/10以下に抑えられた非常に純度の高い製品で、均質性に優れ脈理や気泡がほとんど存在しないため紫外線の透過率が非常に良好で、大型液晶ディスプレイ(LCD)製造用大型フォトマスク基板として幅広く利用されています。
