高純度石英ガラス製品:各種石英ガラス製品の解説

T-1030

酸水素溶融により製造された透明石英ガラスです。外観が非常に良好で、気泡や筋などが少ない製品です。

T-1630S

超LSIの製造など、特に高純度を必要とする用途向けに開発された透明石英ガラスです。T-1030に比べ耐熱性に優れ、アルカリ金属および銅の含有量が少ない製品です。

T-1930S

T-1930Sは半導体熱処理炉まわりの断熱用に開発された製品で、石英ガラスのもつ高純度という特長を活かしながら、高遮熱性を得るため微細な気泡を均一に含有しています。
また、Na、K、Liといったアルカリ不純物が極めて少ない製品です。

T-1930S保温筒の写真
T-1930S保温筒

T-4040・T-4042

超高純度のSiCl4を原料として製造された合成石英ガラスT-4000シリーズは、一般の石英ガラスに比べ金属不純物が1/10以下に抑えられた非常に純度の高い製品で、均質性に優れ脈理や気泡がほとんど存在しません。そのため紫外線の透過率が非常に良好で、この特性を活かしLSIパターン転写用フォトマスク材として幅広く使用されています。
KrFエキシマレーザーリソグラフィー、ArFエキシマレーザーリソグラフィー、液浸リソグラフィーに対応しています。

フォトマスク材の写真
フォトマスク材

品種
品種 用途 特徴
T-4040 半導体,一般光学用 半導体用などに用いられる合成石英製品です。
T-4042 KrFエキシマレーザーリソグラフィー用 KrFエキシマレーザー耐性を向上させた製品です。
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用 KrF、さらにArFエキシマレーザー耐性まで向上させた製品です。
ArFエキシマレーザー液浸リソグラフィー用 ArFエキシマレーザーリソグラフィー用の複屈折低減品です。

紫外線透過率
紫外線透過率のグラフ

純度(分析例)
元素 Al Fe Na K Cu Ti Ca Li Mg Cr Mn Ni
含有量 <0.1 <0.1 <0.1 <0.06 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01
その他特性
脈理 泡・異物
一方向フリー なし

複屈折量
ご相談ください。

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T-2030

真空中で電気溶融により製造された透明石英ガラスです。表面に多少の気泡や筋が見られますがOH基が極めて少なく、耐熱性に優れた製品です。

T-2630

T-1630Sと同等の純度をもつ製品ですが、OH基の含有量が極めて少ないため、優れた耐熱性をもっています。

T-230

CZ法によるシリコン単結晶の引き上げに使用される石英ルツボは直接シリコンと接触するため極めて高い純度と耐久性が求められています。これらの要求を満たす各種グレードの製品を用意しております。

用途 シリコン単結晶引き上げ用ルツボ
素材 天然石英原料を使用
サイズ 近年のシリコンの大口径化に対応できる製品を扱っています。

シリコン単結晶引き上げ用ルツボの写真
シリコン単結晶引き上げ用ルツボ

T-240

シリコン融液と接触するルツボ内面に超高純度の合成石英層を持つことで、高温や長時間処理などの更に厳しい条件や、超高純度を要求される単結晶引き上げに最適な製品です。

用途 シリコン単結晶引き上げ用ルツボ
素材 内面に合成石英原料を使用
サイズ 大外径32インチまで対応する製品を扱っています。

T-200

鉄などの不純物が比較的少なく、耐熱性に優れた製品です。

用途 蛍光体焼成用容器、光学ガラス溶融用ルツボ、半導体製造装置用ベルジャー等
素材 高純度天然シリカ原料を使用
サイズ 最大外径φ1200mm、高さ1000mmまでの大きさで各種サイズに対応する製品を扱っています。

ベルジャーの写真
ベルジャー

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