国際粉体工業展 東京 2008

皆様のご来場誠にありがとうございました！
2008年10月28日（火）〜10月31日（金）に幕張メッセにて開催されました「国際粉体工業展」では、当社ブースに多くの方々にご来場いただき誠に有難うございました。また初日に日経産業新聞にマイクロセラミック球状粒子が掲載されたこともあり、多くの方に興味を持っていただきました。会期中は、十分なご説明を行えなかった場合もあったかと思いますが、何卒ご寛容のほどお願いいたします。また出展製品についてのご質問やお問合せなどがございましたら、お気軽にお問合わせ下さい。

出展当日の様子

国際粉体工業展 東京 2008

2008.10.28-10.31

ご来場風景 1

出展品

マイクロセラミック球状粒子
マイクロセラミック球状粒子
粒子径が極めて均一で、真球度の高い単分散マイクロセラミック球状粒子を開発しました。粒子径や密度の制御が可能で、さらにTiO2、Al2O3、ハイドロキシアパタイトなど様々なセラミックス素材での作製も可能です。
pdf 当日配布資料PDF（マイクロセラミック球状粒子 : 152kb）
pdf 当日配布資料PDF（マクロポア粒子 : 1202kb）
pdf 当日配布資料PDF（多孔質粒子 : 1353kb）
pdf 当日配布資料PDF（緻密質粒子 : 745kb）
真空排気用ソフバックフィルターTM
真空排気用ソフバックフィルターTM
真空チャンバーの排気配管中に取り付けることにより、パーティクル低減やスループット向上に優れた効果を発揮します。またあらゆる装置で使用できる“バルブ一体型”やニードルバルブ等の代わりに使用できる“スロー排気ライン用”など多彩なラインアップを取り揃えています。
pdf 当日配布資料PDF（真空排気用ソフバックフィルターTM : 108kb）
真空破壊用ブレイクフィルターTM
真空破壊用ブレイクフィルターTM
セラミック多孔体の持つ圧力バッファー効果を利用した、真空破壊（装置内を真空状態から常圧に戻す操作）用の気流制御フィルターです。パーティクルの低減や、突発パーティクルの防止にも効果を発揮します。半導体のエッチング工程の歩留まり向上から出発して、大型液晶ディスプレイの工程などにも応用が進んでいます。
pdf 当日配布資料PDF（真空破壊用ブレイクフィルターTM : 116kb）

国際粉体工業展 東京 2008について

出展対象 製造・プロセス機器／計装・測定、ラボ機器／材料、エンジニアリング、情報／ナノパーティクルテクノロジー／環境・エネルギー
ウェブサイト http://www.cnt-inc.co.jp/powtex/tokyo/新しいウィンドウを開きます。
日時 2008年10/28(火)〜10/31(金)
時間 10:00〜1７:00
会場 幕張メッセ 1・2・3ホール　国際展示場
主催 （社）日本粉体工業技術協会

本ページに関するお問合せ先

コバレントマテリアル株式会社　営業支援部　篠生
TEL：03-5437-8407　FAX：03-5437-7395

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