SEMICON Japan 2008 | クアーズテック株式会社

皆様のご来場誠にありがとうございました！
去る12月3〜5日まで幕張メッセで開催されましたセミコン・ジャパン2008に際し、ご多忙中にもかかわらず、弊社ブースに多数の皆様よりご来場頂き、誠に有り難うございました。次回のセミコンも出展する予定でおりますので、今後とも宜しくお願い致します。

出展当日の様子

SEMICON JAPAN 2008

2008.12.3-12.5

※写真をクリックすると、上に拡大した画像が表示されます

アニールウェーハ　

（358kb）
エピタキシャルウェーハ　

（316kb）
拡散ウェーハ　

（351kb）
厚膜SOIウェーハ　

（261kb）
CERASIC®-Bの接合技術　

（400kb）
CERASIC®-BP 多孔質SiC 　

（285kb）
CERASIC®-B常圧焼結SiC 　

（335kb）
TPSS 高純度炭化ケイ素セラミックス　

（347kb）
CLEAR CARBONエピタキシャル成長用SiCサセプター　

（261kb）
世界最高レベルの純度を誇る石英ガラス　

（304kb）
高純度石英ガラスボート　

（435kb）
超大型石英ガラス製品　

（447kb）
SAPPHAL®高純度アルミナセラミックス　

（325kb）
EXYRIA®高純度イットリアセラミックス　

（300kb）
真空排気用ソフバックフィルター™　

（256kb）
真空破壊用ブレイクフィルター™　

（272kb）
CEPURE®インライン・ガスフィルター　

（344kb）
パワーHEMT用GaN on Si基板　

（353kb）
極低熱膨張石英ガラス　

「セミコン・ジャパンは、半導体を中心としたマイクロエレクトロニクスの製造を支える装置・材料産業の、世界を代表する総合イベントです。」

出展対象	製造・プロセス機器／計装・測定、ラボ機器／材料、エンジニアリング、情報／ナノパーティクルテクノロジー／環境・エネルギー
ウェブサイト	http://www.semiconjapan.org/
日時	セミナー・レセプション: 2008/12/2/(火)〜12/5(金) 展示会: 2008/12/3/(水)〜12/5(金)
時間	10:00〜1７:00
会場	幕張メッセ国際展示場・国際会議場・イベントホール〒261-0023 千葉県千葉市美浜区中瀬2-1 代表電話 043-296-0001
主催	Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)

無料（事前登録制。「SEMICON Japan 2008 ホームページにて登録できます。」）

ブースNo.7D-601

以下リンク先をご参照下さい

コバレントマテリアル株式会社　営業支援部　篠生
TEL：03-5437-8407　FAX：03-5437-7395