ゴミ発生器になっていませんか？今お使いのガスフィルター
クアーズテックは、1988年CEPURE® インライン・ガスフィルターの販売開始以来、一貫して半導体製造装置用ガスラインの高純度化、高清浄化に取り組んできました。第一世代としては六角マルチチャンネルタイプのエレメントを採用した「Mシリーズ」を、そして1992年には第二世代として除粒子性能を維持しつつ、ガス置換特性を向上させた「TMシリーズ」を市場に送りだしました。現在、CEPURE® シリーズは、より高いガス置換特性を追及し、かつ一段とコンパクト化を図った第三世代の「STMシリーズ」に進化しており、ユーザーの皆様から高い評価を得ています。また、近年、半導体製造装置業界で主流となりつつある集積型ガスパネルに対応する「STM-Vシリーズ」をラインアップに加え、集積型フィルターの小型化、高性能化に取り組むと同時に、多様化するユーザーニーズに対応すべく、各種フィルター応用製品の開発を進めています。
下の表は実際の製造工程で使用されたガスフィルターの分析例です。サンプルの1次側より窒素ガスを導入し、2次側から放出されたパーティクルを純水に捕獲し分析したものです。表からもお解りいただけますように、ガスフィルターは使い方次第でゴミ発生器に変貌してしまう恐れがあります。
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ガスフィルターから放出されたパーティクルの化学分析例
| Sample | Al | Fe | Na | Cr | Ni | Si | Gas used |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CEPURE® | ◆ | ◆ | ◆ | ◆ | ◆ | ◆ | BCl3 |
| Filter-A | 0.06 | 23 | 0.17 | 0.82 | 3.4 | 1.80 | H2 |
| Filter-B | 0.33 | 0.87 | 0.01 | 0.32 | ◆ | 5.70 | SiH4 |
| Filter-C | 0.06 | >4 | ◆ | >10 | >3 | 0.05 | HCl |
◆：測定限界以下
CEPURE® インライン・ガスフィルターに採用したエレメントは、耐食性に優れた99.9%以上の高純度アルミナで、均一にコントロールされた2層もしくは3層からなる微細な細孔を有しています。
幾何学的に圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性などガスフィルターに求められる特性面においても非常に優れており、理想的なフィルターメディアと言えます。
一般にフィルタ製品は長期間使用しますと、不具合の原因となる場合があります。ガスの種類や使用環境など、場合によっては人体・財産に影響を及ぼす事故につながる可能性もあります。交換推奨周期につきましては、使用条件・使用状況などにより異なるため、一概に定めるこができませんが、お客様におかれましては、定期的な交換を心がけて頂くことを推奨します。
